什么是离子植入物？(an ion implant?)
离子注入在几个不同的行业都有应用，尤其是在半导体制造方面。离子植入物是一种特定元素的离子，放置在其周围的材料中，以改变材料的电气或表面特性。可用于离子注入的一些常见元素是磷、砷、硼和氮。
离子注入科学从20世纪50年代就已为人所知，但直到20世纪70年代才得到广泛应用。一种称为质量分离器的机器被用来将离子注入其目标材料中，该材料被称为科学用途的“基质”。在典型的装置中，离子在源点产生，然后向分离磁铁加速，分离磁铁有效地将离子集中并对准其目的地。这些离子由原子或分子组成，其电子数比通常的高或低，使它们更具化学活性。。
到达基底后，这些离子与原子和分子发生碰撞，然后停止。这种碰撞可能涉及原子核或电子。这些碰撞造成的损伤改变了基底的电性能。在许多情况下，离子注入会影响基底的导电能力。
一种叫做掺杂的技术是使用离子注入的主要目的。这通常是在集成电路的生产中完成的，事实上，像计算机中的那些现代电路，如果没有离子注入就无法制造。掺杂基本上是专门用于电路制造的离子注入的另一个名称。
掺杂要求离子从非常纯净的气体中产生，这有时可能是危险的。因此，有许多安全协议来管理掺杂硅片的过程。在自动质量分离器中，气体颗粒被加速并导向硅衬底。自动化减少了安全问题，并且每分钟可以通过这种方式掺杂几个电路。
离子注入也可用于制造钢制工具。在这种情况下，离子注入的目的是改变钢的表面性质，使其更耐裂纹。这种变化是由植入引起的表面轻微压缩引起的。离子注入带来的化学变化也可以防止腐蚀。同样的技术也被用于设计假肢设备，比如人工关节，赋予它们类似的特性。
- 发表于 2022-01-28 09:44
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- 分类：科学
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