氧化铝的主要区别(main difference aluminum oxide) vs. 碳化硅(silicon carbide)

氧化铝又称氧化铝。它是铝的氧化物。天然存在于刚玉或铝土矿中。碳化硅是一种半导体材料。它是一种无机化合物。它在地壳上非常罕见，但在太空中像星尘一样常见。氧化铝和碳化硅的主要区别在于氧化铝是电绝缘体，而碳化硅是半导体。

覆盖的关键领域

1.什么是氧化铝-定义、化学和物理性质、化学结构2.什么是碳化硅-定义、化学和物理性质3.氧化铝和碳化硅的区别是什么-主要区别的比较

关键词：氧化铝，氧化铝，两性，铝土矿，金刚砂，刚玉，电绝缘体，碳化硅，升华

什么是氧化铝(aluminum oxide)？

氧化铝是化学式为Al2O3的无机化合物。这也被称为氧化铝。该化合物的摩尔质量为101.96克/摩尔。它是一种铝的氧化物。这种化合物主要以刚玉或铝土矿的形式存在于自然界中。

氧化铝的熔点是2072°C、 沸点是2977°C.该化合物呈白色结晶粉末，无味。它不溶于水。氧化铝被用作冶炼铝金属的原料。氧化铝既能与酸反应，也能与碱反应，因为它具有两性性质。在刚玉中，氧化铝的化学结构是六角形的。

Figure 1: Active Aluminum Oxide

氧化铝是用于陶瓷生产的最具成本效益的材料之一。

氧化铝的性能

• 硬度
• 良好的导热性
• 高强度和刚度
• 电气绝缘
• 不溶于水
• 高耐化学性

氧化铝可以以不同的晶相存在。最稳定的形式是六方晶体结构。这种结构被称为氧化铝的α相。它是氧化铝最坚固的结构。

什么是碳化硅(silicon carbide)？

碳化硅是一种化学式为CSi的无机化合物。每个分子由一个碳原子和一个硅原子组成。该化合物的摩尔质量为40.10 g/mol，呈黄色至绿色晶体。碳化硅也被称为碳化硅。

碳化硅的熔点是2830°C、 它升华后就没有沸点了。升华是物质直接从固态到气相的相变。因此，碳化硅不存在液相。熔点实际上是指升华温度。

Figure 2: Silicon Carbide

天然存在的碳化硅在刚玉矿床中仅以微量存在。因此，世界上使用的大多数碳化硅都是合成的。尽管碳化硅在地球上是稀有的，但它在太空中很常见，就像在富含碳的恒星上发现的星尘一样。

碳化硅有许多晶型。它表现出多态性。其中最常见的结构是α-碳化硅形式。它有六方晶体结构。尽管碳化硅颜色较深，但纯碳化硅是无色的。深色是由于这种化合物表面存在铁杂质和二氧化硅层。碳化硅是一种半导体。

氧化铝(aluminum oxide)和碳化硅(silicon carbide)的区别

定义

氧化铝：氧化铝是一种化学式为Al2O3的无机化合物。

碳化硅：碳化硅是一种化学式为CSi的无机化合物。

摩尔质量

氧化铝：氧化铝的摩尔质量为101.96g/mol。

碳化硅：碳化硅的摩尔质量为40.10g/mol。

其他姓名

氧化铝：氧化铝又称氧化铝。

碳化硅：碳化硅也称碳化硅。

导电性

氧化铝：氧化铝是一种电绝缘体。

碳化硅：碳化硅是一种半导体。

外观

氧化铝：氧化铝是一种白色结晶性粉末。

碳化硅：碳化硅黄色至绿色晶体。

熔点和沸点

氧化铝：氧化铝的熔点为2072°C、 沸点是2977°C.

碳化硅：碳化硅的熔点是2830°C、 它升华后就没有沸点了。因此，熔点实际上是碳化硅的升华温度。

结论

氧化铝和碳化硅都是无机化合物。虽然氧化铝天然存在于地壳上，但碳化硅却很少被发现。氧化铝和碳化硅的主要区别在于氧化铝是电绝缘体，而碳化硅是半导体。

引用

1.“结构/化学性质。”氧化铝（Al2O3），可在此处获得。2百科全书æ大英百科全书ædia Britannica，inc.，2016年1月26日，可在此处获取。3.“氧化铝，Al2O3陶瓷特性。“氧化铝| Al2O3材料特性，此处提供。4。”碳化硅。“百科全书æ大英百科全书ædia Britannica，inc.，2008年8月28日，可在此处获取。 2.“氧化铝”百科全书æ大英百科全书æ大英百科全书公司，2016年1月26日， 3.“氧化铝，Al2O3陶瓷性能”，氧化铝| Al2O3材料性能， 4.“碳化硅。”百科全书æ大英百科全书æ大英百科全书公司，2008年8月28日，