什么是真空沉积？(vacuum deposition?)

真空沉积这一术语描述了一组旨在将单个粒子，特别是原子和分子，铺设到表面的工艺。这些过程是在真空中进行的，以防止任何干扰或与气体粒子（如氧气）发生反应，因为氧气可能是高度活性的。应用于表面的非常薄的物质层被称为薄膜，而较厚的层被称为涂层。真空沉积可以达到许多不同的目的，如将导电层沉积到表面或保护金属免受腐蚀。这个过程也经常被用于各种汽车部件，以达到防止生锈和腐蚀等各种目的。...

Vacuum deposition is a process that lays down individual atoms and molecules onto a surface.

最常用的真空沉积方法涉及到蒸汽的使用。有时，要沉积在表面上的物质被汽化；后来它在表面上凝结成一层。在其他情况下，汽化的物质与表面反应，形成所需的薄膜或涂层。在某些情况下，必须操纵其他因素，如温度或蒸汽密度，以获得理想的结果。这些因素会影响该层的厚度和内聚力，所以正确调节这些因素是至关重要的。

物理气相沉积是真空沉积，其中只发生物理过程；没有化学反应。物理气相沉积方法主要用于用薄膜覆盖表面；气化的物质在表面上凝结。其中一种方法被称为电子束物理气相沉积。在电子束物理气相沉积中，要沉积的材料在凝结在沉积表面之前被电子束加热和汽化。另一种常见的物理真空沉积方法是溅射沉积，在这种方法中，气体或蒸汽从某种源头喷射出来，直接射向要镀膜的表面。

化学气相沉积是一种真空沉积的形式，其中化学过程被用来生产所需的薄膜或涂层。气体或蒸汽在真空中与它们要镀的表面发生反应。许多不同的化学品，如氮化硅或多晶硅，被用于不同的化学气相沉积过程。

真空是真空沉积的一个重要部分；它有几个重要的作用。真空的存在导致不良颗粒的低密度，因此打算涂覆在表面的颗粒不会与任何污染颗粒发生反应或碰撞。真空还允许科学家们控制真空室的真空成分，以便能够生产出适当大小和浓度的涂层。