聚乙烯醇(pvd)和化学气相沉积(cvd)的区别

PVD与CVD...

PVD与CVD

PVD（物理气相沉积）和CVD（化学气相沉积）是两种技术，用于在基板上形成一层很薄的材料；通常称为薄膜。它们主要用于生产半导体，在半导体中，n型和p型材料的薄层形成了必要的连接。PVD和CVD的主要区别在于它们采用的工艺。正如你可能已经从名字中推断出的那样，PVD只使用物理力来沉积该层，而CVD则使用化学过程。

在PVD技术中，通过蒸发、高功率电的应用、激光烧蚀和其他一些技术使纯源材料气化。气化后的材料将在基材上凝结，形成所需的层。整个过程中没有发生化学反应。

在化学气相沉积中，源材料实际上并不纯净，因为它与作为载体的挥发性前体混合。将混合物注入含有基底的腔室中，然后沉积到其中。当混合物已经粘附在基板上时，前体最终分解并在基板中留下所需的源材料层。然后副产品通过气流从腔室中排出。分解过程可以通过加热、等离子或其他过程来辅助或加速。

无论是通过CVD还是通过PVD，最终的结果基本上是相同的，因为它们都会根据所需的厚度产生一层非常薄的材料。CVD和PVD是非常广泛的技术，有许多更具体的技术。实际过程可能不同，但目标是相同的。由于成本、易用性和各种其他原因，某些技术在某些应用中可能比其他技术更好；因此，在该领域，它们是首选的。

总结：

PVD仅使用物理过程，而CVD主要使用化学过程
PVD通常使用纯源材料，而CVD使用混合源材料

发表于 2021-06-24 08:21
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分类：化学

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