点缺陷(point defect)和线路缺陷(line defect)的区别

点缺陷和线缺陷的关键区别在于点缺陷只发生在晶格的某一点或其周围，而线缺陷发生在晶格中心的原子平面上。

晶体缺陷是晶格重复图案的缺陷。这些缺陷破坏了晶格的规则模式。晶体缺陷有几种类型，如点缺陷、线缺陷、平面缺陷和体缺陷。点缺陷的可视化很容易，但是线缺陷的可视化却很困难。

什么是点缺陷(point defect)？

点缺陷是在晶格的单个点上或周围发生的不规则。通常，这种缺陷的形成要么是由于额外原子的存在，要么是由于晶格中原子的损失。因此，这些缺陷相当小。然而，有时也会有一些更大的缺陷。我们称之为位错环。

图01：不同点缺陷

点阵中可以出现几种形式的点缺陷。

线缺陷是晶体缺陷的一种形式，其中缺陷发生在晶格中心的原子平面上。因此，这些都是线性缺陷。在那里晶格的原子排列不齐。这些缺陷的两种主要形式是：；

有时我们可以看到这两种缺陷的综合效应。我们称之为混合位错。边缘位错是由于晶体中间原子平面的丢失而产生的。在这些位错中，相邻的原子平面变得不笔直；在缺失的平面周围弯曲，使晶体结构在两边排列整齐。

图02：边缘错位

螺钉脱位很难想象。在那里，晶体中的原子平面沿着位错线的螺旋路径运动。

点缺陷是在晶格的单个点上或周围发生的不规则。这些缺陷的形成要么是由于一个额外的原子，要么是由于原子的损失。此外，点缺陷也很容易可视化。线缺陷是晶体缺陷的一种形式，其中缺陷发生在晶格中心的原子平面上。当一个原子平面错位时，就会出现这些缺陷。此外，很难想象线缺陷。这是点缺陷和线缺陷的主要区别。

点缺陷(point defect)和线路缺陷(line defect)的区别

晶体缺陷是指晶格中的缺陷。点缺陷和线缺陷的区别在于，点缺陷只发生在晶格的某一点或其周围，而线缺陷发生在晶格中心的原子平面上。

1“晶体缺陷”，维基百科，维基媒体基金会，2018年6月10日。这里有2个。“晶体缺陷。”Mannich Reaction | Mannich Reaction Mechani** |【电子邮件保护】可在此处找到
2“晶体缺陷”，曼尼希反应|曼尼希反应机理|